离子去胶机 型号：PR-3
通过等离子体方法，对陶瓷片、硅片等衬底材料图形上的光刻胶进行干法去除。设备为单室真空系统，主要由真空系统、气路系统、电气系统、射频电源系统、控制系统、冷却系统、报警系统等部分组成。

离子去胶机 型号：PR-3

通过等离子体方法，对陶瓷片、硅片等衬底材料图形上的光刻胶进行干法去除。设备为单室真空系统，主要由真空系统、气路系统、电气系统、射频电源系统、控制系统、冷却系统、报警系统等部分组成。  
离子去胶机 射频电源采用RF500W电源控制。  
气路系统采用两台浮子流量计控制气体进气。
 腔室结构：卧式、纯石英
 真空室规格：F210´300mm
 限真空：1Pa（环境湿度≤55%）
 真空系统:机械泵
 大装片直径: F4英寸
  大装片容量：4英寸 25片/炉
 去胶速率: ～500A/min
 去胶不均匀性：≤±5％ (φ4吋范围内)
 操作方式:手动方式
用户可选配全自动控制方式

产品名称：标准型匀胶机 台式匀胶机 产品型号：SC-1B

标准型匀胶机  台式匀胶机 型号：SC-1B

SC-1B标准型匀胶机主要适用于半导体硅片、晶片、ITO导电玻璃、光学玻璃等工艺制版及表面涂覆，各种光刻胶表面膜制备。  
   采用变频技术控制旋涂速度与时间，有效控制胶的厚度、均一性。可应用于各研究领域前期研发及小规模生产。
主 要 技 术 指 标1. 控制显示：LED数字控制器，用户可通过控制器进行参数修改设置
2. 匀胶模式：可同时输入七组数值，即转速及匀胶时间可任意设置为Ⅰ档、Ⅱ挡、……Ⅶ档，转速启动后先低速运转（Ⅰ档），然后自动执行Ⅱ档、……Ⅶ档，直至达到高速运转。
3．匀胶时间：1～9999s任意时间可设置
4．匀胶速度：0～8000rmp可调
5．旋转加速度：0～8000rpm/sec 由低速到高速加速时间0.1s～0.5s
6．转速稳定度：±1rmp
7．涂胶均匀性：±3%
8．可镀膜尺寸：Ф5～Ф150mm（6〞）
9．基片厚度：  ≤5mm
配 置 参 数1．设备配置Ф200mm接胶装置
2．电机功率：90W，额定转速8000rmp
3．真空泵：FY-1C旋片式真空泵，抽速60L/min(用户可选配无油型真空泵)
4．样片托：标配1英寸一个，2英寸一个，其它规格按要求定制
5．输入电源： AC220V/240V  50HZ
6．整机功率：100W
7．机身尺寸： 280×360×240mm
8．机身重量：10Kg

过滤效率测试仪型号：GB32610
一、主要用途：  
过滤效率测试装置用于日常防护型和呼吸器对颗粒物的防护效果及过滤效率的测试。用于日常防护型、医用、呼吸器对颗粒物过滤效率的测试。适用于医疗器械检验中心、安全防护检验中心、劳动防护检验中心、药品检验中心、疾病预防控制中心、纺织品检测中心、医院、和呼吸器生产企业等。  

二、应用范围：  
  适用于医疗器械检验中心、 安全防护检验中心、 劳动防护检验中心、 药品检验中心、疾病预防控制中心、医院、和呼吸器生产企业等。  

三、适用标准：  

GB 32610-2016 日常防护型技术规范  

GB 2626-2006 呼吸防护用品-自吸过滤式防颗粒物呼吸器  

GB 19082-2009 医用一次性技术要求  

GB 19083-2010 医用防护技术要求  

YY 0469-2011 医用外科  

四、技术参数：  

1、 采用冷发生气溶胶发生器产生出连续稳定的气溶胶粒子，加注溶液方便。  

2、 采用高精度激光传感器对气溶胶浓度进行测量。  

3、 全程颗粒物防泄漏设计，保护实验人员安全。  

4、 气溶胶发生器 2 套：盐性颗粒物气溶胶发生器和油性颗粒物气溶胶发生器。  

5、 配有气溶胶颗粒物静电荷中和装置。  

6、 气动夹具并配有保护装置，使用安全方便。  

7、 配置温湿度传感器，实时显示环境温湿度  

（温湿度要求：25℃±5℃，30%RH±10%RH）。  

8、 配置精密流量计、真空泵、激光尘埃粒子计数器。  

9、 过滤效率检测范围：0-99.999%。  

10、过滤效率检测流量计范围（10-100）L/min，精度 2.5 级。  

11、过滤效率采样频率：1-9999 次/min 可任意设置。  

13、仪器准确度等级（精度等级）：1 级  

14、控制系统：友好的人机界面控制试验过程，自动采集数据。  

15、系统自动测试气体浓度，自动计算过滤效率；可保存、输出、查询、打印测试数据。  
16、电源： AC220V 50Hz  

五、系统功能  
1、效率检测  

2、阻力检测  

3、密合度检测