离子式去胶机 型号：PR-3
通过等离子体方法，对陶瓷片、硅片等衬底材料图形上的光刻胶进行干法去除。设备为单室真空系统，主要由真空系统、气路系统、电气系统、射频电源系统、控制系统、冷却系统、报警系统等部分组成。
射频电源采用RF500W电源控制。

离子式去胶机 型号：PR-3   离子式去胶机

通过等离子体方法，对陶瓷片、硅片等衬底材料图形上的光刻胶进行干法去除。设备为单室真空系统，主要由真空系统、气路系统、电气系统、射频电源系统、控制系统、冷却系统、报警系统等部分组成。

射频电源采用RF500W电源控制。

气路系统采用两台浮子流量计控制气体进气。

腔室结构：卧式、纯石英

真空室规格：F210´300mm

限真空：1Pa（环境湿度≤55%）

真空系统:机械泵

大装片直径: F4英寸

大装片容量：4英寸 25片/炉

去胶速率: ～500A/min

去胶不均匀性：≤±5％ (φ4吋范围内)

操作方式:手动方式

用户可选配全自动控制方式

SC-1B标准型匀胶机主要适用于半导体硅片、晶片、ITO导电玻璃、光学玻璃等工艺制版及表面涂覆，各种光刻胶表面膜制备。

采用变频技术控制旋涂速度与时间，有效控制胶的厚度、均一性。可应用于各研究领域前期研发及小规模生产。

主 要 技 术 指 标1. 控制显示：LED数字控制器，用户可通过控制器进行参数修改设置

2. 匀胶模式：可同时输入七组数值，即转速及匀胶时间可任意设置为Ⅰ档、Ⅱ挡、……Ⅶ档，转速启动后先低速运转（Ⅰ档），然后自动执行Ⅱ档、……Ⅶ档，直至达到高速运转。

3．匀胶时间：1～9999s任意时间可设置

4．匀胶速度：0～8000rmp可调

5．旋转加速度：0～8000rpm/sec 由低速到高速加速时间0.1s～0.5s

6．转速稳定度：±1rmp

7．涂胶均匀性：±3%

8．

可镀膜尺寸：Ф5～Ф150mm（6〞）

9．基片厚度：  ≤5mm

配 置 参 数1．设备配置Ф200mm接胶装置

2．电机功率：90W，额定转速8000rmp

3．真空泵：FY-1C旋片式真空泵，抽速60L/min(用户可选配无油型真空泵)

4．样片托：标配1英寸一个，2英寸一个，其它规格按要求定制

5．输入电源： AC220V/240V  50HZ

6．整机功率：100W

7．机身尺寸： 280×360×240mm

8．机身重量：10Kg

超声波多普勒流速流向仪 直读式海流计 型号：HXH03-1

产品简介

HXH03-1型超声波多普勒流速流向仪适用于河口、海洋、岸边观测站、船只和浮标等水域的流速、流向和水温测量，也可以用于固定安装在线自动测量。

性能特点

1、测量精度高，量程宽，可测弱流，也可测强流；

2、感应灵敏，分辨率高，不受启动流速限制；

3、响应速度快，可测瞬时流速，也可测平均流速；

4、测量线性，不存在校正曲线的K、C值；

5、无机械转动部件，不存在泥沙堵塞或水草、杂物缠绕等问题，适用于泥沙悬浮物含量高，水草等漂浮物多的河流中测量。

功能介绍

1、大屏幕液晶显示具有连续背景光功能；

2、仪器电缆可直接负重和悬挂两种方式；

3、内置大容量数据存储器，容纳高达5000组数据；

4、内置完整时钟，方便用户校准和查询时间；

5、配有数据读取软件，实现数据存储、打印和输出功能；

6、内置流向调零置校功能，满足不同地区的需求；

7、实时显示流速值、温度值和流向值；

8、测量模式分自动测量和手动测量，满足不同场合的用途;

9、可通过GPRS模式即时将测量数据远程传输到多五个的用户终端。

技术参数

测流范围0.02-7.00m/s

测流准确度1.0%±1cm/s

分辨率1mm

流向测流范围0-360°  方位角

测量准确度±3°

水温测量范围0-40℃

测温准确度±1℃

工作水深0.1-80m(可增加至200米)

测量模式自动和手动两种

测量间隔自动方式：分0-120分钟选择值，以5分钟费小递增或递减间隔单位

手动方式：可单次或连续多次测量，间隔任意

测速历时自动方式：60秒、100秒两种

手动方式：10-120秒，递增或递减选择

工作电源AC220V，50HZ,±10%；DC12V±10%（内可增设蓄电池）

输出接口RS485或RS232或USB接口，标准的MODBUS 协议

功耗待机＜0.2W，测速＜7W

体积和重量探头尺寸:450x180x180mm，重量：4.5kg

主机尺寸：235x215x90mm，重量：1.86kg

外包装箱外形尺寸：560x560x300mm

测量方式1、悬吊测量   2、固定安装测量

产品名称：全中文菜单挥发酚仪 产品型号：HFF-3A